ICP-MS 電感耦合等離子體質(zhì)譜法是將被測物質(zhì)用電感耦合等離子體離子化后，按離子的質(zhì)荷比分離，測量各種離子譜峰的強度的一種分析方法。自1983 年臺商品化生產(chǎn)以來，就在不斷改善中得到廣泛應用ICP-MS 技術的分析能力可以取代傳統(tǒng)的無機分析技術如電感耦合等離子體光譜技術、石墨爐原子吸收進行定性、半定量、定量分析及同位素比值的準確測量等。

鋼研納克PlasmaMS300電感耦合等離子體質(zhì)譜儀icp-ms是將被測物質(zhì)用電感耦合等離子體離子化后，ICPMS質(zhì)譜儀廠家，按離子的質(zhì)荷比分離，測量各種離子

譜峰的強度的一種分析方法。是20 世紀80

年代發(fā)展起來的新的分析測試技術。它以的接口技術將ICP-MS 的

高溫（7000 K）電離特性與四極桿質(zhì)譜計的靈敏快速掃描的優(yōu)點相結合而形成一種新型的元素和同位素分析技術，

可分析幾乎地球上所有元素。具有檢出限低，線性動態(tài)范圍寬，譜線簡單，干擾少，分析精度高，速度快，多元

素同時分析，檢測模式靈活等優(yōu)點。

空白樣品檢測結果異常可能是由多種原因引起的。除了之前提到的一些因素，還可能包括以下原因：

氣源問題：氬氣等氣源的純度不夠或存在雜質(zhì)，可能影響空白樣品的檢測。

樣品容器污染：用于存放空白樣品的容器可能受到污染，導致空白樣品結果異常。

靜電干擾：靜電可能對儀器的檢測產(chǎn)生干擾，尤其在干燥環(huán)境中更容易出現(xiàn)。

參數(shù)設置不當：儀器的某些參數(shù)設置不合適，如霧化氣流量、等離子體功率等，可能影響空白樣品的檢測。

軟件問題：儀器的軟件可能存在故障或錯誤，導致數(shù)據(jù)處理異常。

外部干擾源：附近的電磁輻射、振動等外部干擾源可能影響儀器的正常工作。

要解決這些問題，可以嘗試以下方法：

檢查和優(yōu)化氣源，確保氣源的純度和穩(wěn)定性。

清洗或更換樣品容器，避免污染。

控制實驗室的濕度，減少靜電干擾的可能性。

仔細檢查和調(diào)整儀器的參數(shù)設置，根據(jù)實際情況進行優(yōu)化。

檢查軟件是否需要更新或重新安裝，確保軟件正常運行。

排除外部干擾源，如移動干擾源或?qū)x器進行屏蔽防護。

鋼研納克電感耦合等離子體質(zhì)譜儀PlasmaMS 300 儀器特點

1. 石英、耐氫1氟酸等豐富多樣的進樣系統(tǒng)；分立式矩管，便于拆卸維護；可選配半導體制冷進樣裝置和自動進樣系統(tǒng)。

2. 27.12MHz全固態(tài)RF發(fā)生器，實現(xiàn)極高的穩(wěn)定性；自動匹配速度快，保證了點火成功率

3. 雙錐接口，可在真空狀態(tài)下直接拆卸維護

4. 大范圍準確可調(diào)的三維平臺，實現(xiàn)矩管全自動定位和校準

5. 雙離軸離子傳輸（偏轉(zhuǎn)）系統(tǒng)，去除不帶電粒子，保證低噪聲和高靈敏度

6. He氣碰撞池匹配性能高質(zhì)量流量控制器，有效去除多離子干擾

7. 高通量的長四極桿，質(zhì)量范圍2-265amu，分辨率<0.8amu；應用的DDS技術，實現(xiàn)自動頻率匹配，保證離子有效篩選

8. 雙模式檢測器，脈沖計數(shù)和模擬計數(shù)檢測，高達9個數(shù)量級線性范圍

9.兩只獨立分子泵組合而成的性能高雙渦輪分子泵真空系統(tǒng)和全自動監(jiān)控系統(tǒng)，確保穩(wěn)定性和靈敏度

10. 無處不在的屏蔽處理，保護實驗人員安全和儀器穩(wěn)定

11. 通過多項可靠性實驗的考驗，保證儀器運行和穩(wěn)定

12. 人性化的工作軟件

PlasmaMS 300 鋼研納克

中文軟件界面，符合中國人操作習慣，用戶靈活保存檢測方法

全方面的狀態(tài)監(jiān)控輸出，錯誤主動提示，問題一目了然，極大方便日常維護

帶有LIMS接口，滿足第三方實驗室的需求